| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 1 | 光学薄膜镀膜系统 | 1 | 1.真空室:真空室尺寸:直径1300 mm,高度1610 mm,真空室材料:不锈钢SUS304。真空室冷却方式:不锈钢管水冷式。 ★2.排气系统和性能:低真空排气系统:机械泵,高真空排气系统:油扩散泵机构紧凑,外加POLYCOLD 1102冷阱,粗抽真空:10分钟以内从大气压到10Pa,极限真空:低于7.0E-5Pa,恢复真空:15 分钟之内达1.3E-3Pa,漏气速率:低于9.0E-5Pa m3/秒。 ★3.基片最高烘烤温度:≥300℃,均匀性:± 5% ,PID自动控温。 4.自动压力控制系统和流量控制系统 5.伞形工件盘:直径约1190mm;转动速度可调:5~30转/分钟。 ★6.镀膜不均匀性:在工件盘上均匀选择16个位置,镀膜不均匀性±0.5% 以内。 ★7.蒸发源:电子枪:10kW,180°偏转,灯丝Φ0.8mm;带自动灭弧恢复系统;电压 -4~-10kV(连续可变);电流 0~1.0A(-10kV 时,连续可变) 8.坩埚:水冷12点铜坩埚台 1个(外径φ65×H17mm); ★9.电阻加热蒸发系统:旋转式热蒸发舟 6点,固定式热蒸发舟 2点,最大功率≥10KW。 ★10.离子源:霍尔离子源(GL离子源) ★11.膜厚监控系统:波长范围:350nm~2400nm,波长精度:<±1nm,波长分辨率:标准6.5nm±1.0nm,546.1nm 处(3nm,10nm 可换),波长再现性:±0.25Nm,噪声:<±0.03%/h(点灯后60分,波长500nm),60点监控片旋转石英晶振监控,6片旋转式水晶膜厚传感器。 12.镀膜控制系统:自动镀膜软件,薄膜设计数据读入功能,过程数据记录,UPS电源 13.镀膜验收指标 带通滤光片(单晶锗基底) 1)可见光-3.5 μm,5.2 μm-6.5 μm,绝对透过率≤1%,平均透过率≤0.1%; 2)3.5 μm-3.6 μm,5.05 μm-5.15 μm,透过率≤5.0%; 3)3.68 μm-3.78 μm,4.90 μm-5.0 μm,透过率=50%; 4)3.85 μm-3.9 μm,4.6 μm-4.75 μm,平均透过率≥85%; 5)3.9 μm-4.6 μm,绝对透过率≥85%,平均透过率≥90% | / |
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